產(chǎn)品名稱(chēng)：二硅化鉭（TaSi2）
規(guī)格：0.8-10um（D50）
形貌：不規(guī)則
顏色：黑灰色
特點(diǎn)：高硬度、高熔點(diǎn)、抗氧化以及優(yōu)良的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能
用途：集成電路、航空航天、發(fā)動(dòng)機(jī)等領(lǐng)域
名稱(chēng)：硅化鉭
化學(xué)式： TaSi2
Cas：12067-56-0
熔點(diǎn)：2200℃
密度：9.14g/cm
硅化鉭的用途：
二硅化鉭具有高熔點(diǎn)、低電阻率、抗腐蝕、抗高溫氧化性以及與硅、碳等基本具有良好的兼容性等優(yōu)異性能。主要應(yīng)用于電熱元件、高溫結(jié)構(gòu)部件、柵材料、集成電路的連接線路、高溫抗氧化涂層、金屬陶瓷、陶瓷基復(fù)合材料及航天航空、發(fā)動(dòng)機(jī)等多領(lǐng)域。
應(yīng)用領(lǐng)域：1） 制備氮化硅-硅化鉭復(fù)合陶瓷材料。氮化硅-硅化鉭復(fù)合陶瓷材料由以下原料（按重量計(jì)）組成：92-98份氮化硅粉末、12-15份硅化鉭粉末、3-6份釹粉末和2-5份氧化銠粉末。
2） 對(duì)于硅化鉭涂層，所描述的方法包括使用10至120微米的粒度范圍，純度大于95wt%的硅化鉭粉末，使用真空等離子噴涂工藝或低壓等離子噴涂工藝將硅化鉭粉末噴涂在基底材料耐高溫表面的預(yù)處理中，等離子噴涂工藝參數(shù)為：等離子氣體Ar:30-50SLPM；等離子氣體H2:8-18 SLPM；粉末載氣Ar:1.55slpm；噴灑距離：100-350mm；噴灑功率：30-58kw；送粉量：8-30g·min-1；噴霧壓力：100-800mbar。
硅化鉭制備：
1.以金屬鉭和硅粉為原料，將金屬鉭和硅粉進(jìn)行粉碎并混合均勻，再將其放入石墨爐內(nèi)加熱至1100～1500℃進(jìn)行預(yù)反應(yīng)，然后通入氫氣，再升溫至800℃進(jìn)行反應(yīng)，即得硅化鉭。或者用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭，再加熱至1800℃得金屬鉭，然后加入硅粉合成得硅化鉭。
2.將Si和Ta混合物先預(yù)熱至350℃，然后升溫至1480℃，加熱反應(yīng)?；蛄頣aS2與SiHnX4-n在900℃下反應(yīng)制得。
3.直接法 以金屬鉭和硅粉為原料制備硅化鉭，反應(yīng)式如下。
首先將金屬鉭和硅粉進(jìn)行粉碎并混合均勻，再將其放入石墨爐內(nèi)加熱至1100～1500℃進(jìn)行預(yù)反應(yīng)，然后通入氫氣，再升溫至1800.℃進(jìn)行均化反應(yīng)1h，即得硅化鉭。
